近年来国家鼓励国内半导体产业创新发展，打破国外垄断，实现技术自主，出台了一系列支持和引导该行业的政策法规。四氟化锗（GeF4）作为一种锗的氟化物，在半导体行业中用于掺杂和离子注入，结合乙硅烷气体，可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶，其潜在应用价值正越发受到国内外企业关注。在某GeF4生产工艺过程中，需要尽力去除产品气GeF4 中杂质HF气体，使其残留量值低于企业标准中的限量值（35ppm）。为了监测此工艺过程的效果，需要定量监测GeF4气体中的HF残留。含量范围大约0-500 ppm。

在线气体分析仪可根据气体分子对激光能量的“选频吸收”进行气体浓度的测量，实现HF含量的实时监测，定量监测范围可定制，在环境、安全监测中已有应用。上图为GeF4生产工艺过程的HF残留量监测方案，由于HF具有强腐蚀性无法用常规气相色谱监测，在线激光气体分析仪是HF残留的唯一解决方案。下图为某一批次GeF4生产工艺过程中HF残留实测图，可见HF残留量高达40 ppm以上，高于35 ppm企标限量值，为不合格产品。

气体分析系统灵敏度高，能够监测ppm量级的气体残留及含量值，也可以根据需求灵活定制。响应速度数秒内。定量检测精±1.0%F.S.，设备防腐蚀，适合工业生产应用，在氟化工的废气监测、泄露预警中也有应用。

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【鉴知技术简介】

北京鉴知技术有限公司，简称“鉴知技术”，是一家以光谱检测技术为核心的专业公司，产品已广泛应用于安检、食品、药品、毒品、医疗等诸多领域，公司致力于为客户提供物质识别整体解决方案。

鉴知技术源自同方威视技术股份有限公司与清华大学共建的“清华大学安全检测技术研究院”，历经10余年的孵育，专利累计申请数达200余件。公司所拥有的技术获得了国家科学技术委员会科技成果鉴定证书及中国专利优秀奖，相关产品获得了国际发明展览会金奖、北京市新技术新产品证书、中国科学仪器年度优秀新品奖、朱良漪分析仪器创新奖之“创新成果奖”等。